FLUX Design Biennale Luzern

Titel
FLUX Design Biennale Luzern
Gestalter:innen
SPUTNIK Steinemann & Co.
Beteiligte Gestalter:innen
Grundplakat: Tino Steinemann, Gastgestalter Eindruck: Martin Woodtli
Land
Schweiz
Jahr
2004
Format
F4
Drucktechnik
Siebdruck
Druckerei
Bösch Siebdruck AG, Stans
Auftraggeber
FLUX Designbiennale, Luzern